Pharmazeut ische Wassersysteme in der Fertigungs industrie

In der Galvanik beschichtung industrie ist zur Erhöhung der Oberflächen beschaffenheit, der Helligkeit und der Haftung von plattierten Teilen reines Wasser mit einer Leitfähig keit unter 15 μS/cm für die Herstellung einer Galvanik lösung erforderlich. beim Spülen der plattierten Teile, die Leitfähig keit von reinem Wasser unter 10 μS/cm.

Kessel-Make-up-Wasser soll das verlorene Teil oder das von außen gelieferte Teil nach Abschluss eines Dampf wasser kreislaufs ergänzen, so dass der Kessel immer auf einem sicheren Wasserstand arbeiten kann.

Halbleiter, Chips und Pakete mit integrierten Schaltkreisen, Flüssig kristall anzeigen, hochpräzise Leiterplatten, opto elektronische Geräte, verschiedene elektronische Geräte, Mikro elektronik industrie, große und ultra große integrierte Schaltkreise benötigen eine große Menge an hochreinem Wasser, um Halbfabrikate und Fertig produkte zu reinigen. Je höher der Integrations grad integrierter Schaltkreise ist, desto schmaler ist die Linienbreite und desto höher sind die Anforderungen an die Wasser qualität. (Es ist im Allgemeinen erforderlich, dass der Widerstand von hochreinem Wasser und Elektrizität 18,2 M Ω beträgt. cm (25 ° C), TOC < 5ppb und bakterielles Endo toxin <0,03 EU/ml), die strengere Anforderungen für die Benutzer freundlich keit, Automatisierung, Kontinuität und Nachhaltig keit der Produktion von Reinwasser-und Reinst wasser aufbereitung systemen in der Elektronik industrie und deren Produkten.

Industrie produkte müssen im Produktions prozess, Rohstoffs ch neiden, Material veredelung und andere Verbindungen gereinigt werden, um den normalen Betrieb der Produktions anlagen sicher zustellen und die qualifizierte Rate der fertigen Produkte zu verbessern. Die Qualität des Waschwassers wirkt sich direkt auf die Qualifikation srate von Waren aus.